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弯道超车?!听说光刻机有重大突破啊!

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1480
#16 23-9-15 09:06
遥遥领先

169
#17 23-9-15 09:23
这是两年前的文章:


经过 18 个月的全力投入基于 SSMB 的 EUV 光刻技术的投入运行并建立了测试工厂,延经已经上线。 负责科学技术的第一副总理出席了命名仪式,仪式上将一瓶茅台酒泼到了首席工程师刘天一身上。 在控制室里,他们一起观看闭路直播,穿着兔子装的技术人员开始将半导体经典变为现实。

按下开关后,八个足球场大小的移动电源开始嗡嗡作响,每个移动电源为粒子加速器存储环提供 20MW 功率,存储环开始每秒泵出数千个 1kw 准直 13.5nm 光脉冲 - 功率的 3 倍 商用 13.5nm DPP 或基于 LPP 的 EUV 机器中的光源,并且没有传统 EUV 工艺产生的混乱的熔融锡喷雾。

再按几次按钮,测试 EUV 光刻机开始打印他们的第一个芯片。 当晶圆快速进出机器时,电机发出呼呼声,然后在其他机器中循环进行蚀刻/沉积,然后再循环回来。在该过程结束时,一名技术人员拿起成品晶圆并将其举起。 查看,然后将其送入下一个流程进行测试、计量和包装。 凭借如此高功率、清洁的光源,该工艺的每周期错误率和成品率比海外最接近的竞争工艺高出近一个数量级。

最初的设计是华为中华-1号集成逻辑芯片,这是一款针对高性能数据中心应用而优化的大型1.5纳米服务器CPU,基于全新指令集架构华龙,从RISC-V开放演变而来 - 来源标准。 Hualong ISA 包含的操作码利用集成的后量子加密算法来保护安全计算飞地,为芯片插入的任何服务器上的敏感应用程序创建隐藏的执行空间。 即使窥探者设法欺骗同一系统中运行的其他应用程序,这个空间也会使这些应用程序不可见。

其他人建议使用更简单的芯片来进行风险生产,但首席工程师刘对机器的能力充满信心,驳回了这一考虑,他说:“如果我们能在比赛中领先 1000 米,为什么只满足于 100 米呢?”

当成品芯片像神锤下锻造出的无尽星星轨迹一样从装配线上滚下时,第一副总理看着刘,递了一张纸。 “多久,多少钱?” 它只是简单地说。 首席工程师退回了一张纸条:还有 15 个月,每月 160 万片晶圆。

未来15个月,风险生产将从每月20万片晶圆逐步扩大至满产,并建设南京和哈尔滨中小型企业EUV工厂。 到2027年,中国将向半导体自给自足迈出一大步。

第一副总理难得一笑,握了握刘天翼的手。 自火药时代以来,中国第一次抓住了人类进步的火炬,并将竭尽全力不再放手。

1906
#18 23-9-15 11:39
苏格拉底 发表于 23-9-14 21:31
啊?为啥啊?这种话题违规了?

别听那些xgz胡诌,这种话题能有什么问题?只是有部分人见不得中国科技进步,不要被引导聊成时政就没有任何问题

1687
#19 23-9-15 12:10
只有极少数的人,才会一点不想着国家进步,不希望人民生活越过越好,可以认为是安提郭五门,或者境外势力,或者叛徒。大部分人都希望国家繁荣昌盛,国富民强。还有一部分人,只是对过于鼓吹,过于盲目自大,感到反感而已,并不是见不着进步。

随着国产光刻机不断进步,以后可能会代工英特尔,也可以自主研发,芯片成本降低,就像国产固态一样。是好事!

如有不妥,请管理员删帖。
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本帖最后由 allentsei 于 23-9-15 12:32 编辑

9131
#20 23-9-15 13:25
嗯 我好像在哪里看到 还有地图了呢,已经在建了。利用中国的基建狂魔能力,意思是精度不够材料来凑,例如枪支精度不够,打不中500mi外的靶子,外国人想的是提升枪支强度,刻膛线,圆锥形子弹,而中国人想的是既然是固定不动的打靶子,那么为何我不把枪管造成500米长的呢?直接怼着靶子中心,开枪就命中。
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493
#21 23-9-15 13:30
盲目的鼓吹盲目的自大固然是某些领域的某一些现实,盲目的质疑一切、盲目的阴谋论、盲目的在线狂欢是不是也变成一种流行了呢?
我想不管什么时候,一个冷静的,独立的,认真思考的大脑很重要。
有很多事情的真实面目,也许他没有你想的那么好,但他可能也没有你想的那么坏。古人说中庸之道,我觉得根据自己多年的生活经验,也合乎现实世界的逻辑。
一件事物出来以后,可以慢一点,让子弹飞多一会儿,多思考思考,也许结论会不一样,而不是急吼吼的没搞清状况没了解全貌,就带着自己的情绪倾向就开始开炮
以上不针对光刻机,不在自己的专业领域不了解,只是自己对现在网上的生态环境的一种感受。
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5856
#22 23-9-15 14:25
虽然说国内芯片想弯道超车非常非常难,但是也希望是真的。

1168
#23 23-9-15 15:33
14nm制程芯片,1:2放大,用28nm制程的光刻机刻母版,再用2:1透镜照母版投到晶圆上即可。同理,7nm制程芯片,1:2放大,用14nm制程的光刻机刻母版,再用2:1透镜照母版投到晶圆上即可。5nm、3nm3、1nm也是。前提是光源要够强,足够稳定可控,制造光源的设备体积大小无所谓。

915
#24 23-9-15 15:55
看起来好像是可行的,你用狙打靶我用投石器打靶,最终能打到靶就行

5727
#25 23-9-15 16:16
越是高精的芯片,主要比拼的是良率问题。我国现今能做出来了,也是一个划时代的开始。核心掌握在自己手中,就不怕别人打压。

1189
#26 23-9-15 19:37
14nm制程光刻机能造7nm芯片,那5nm光刻机也能造2.5nm芯片?7没超5,反而5还快了一倍?

4279
#27 23-9-16 04:42
应该是大有希望。这几天华为&光刻机概念在股市风生水起的!

4346
#28 23-9-16 07:21
光刻机用纯净水的量非常巨大。

524
#29 23-9-16 08:58
作为精密光学制造的业内人士,我想说,光源只是万里长征第一步,里面涉及到的科学和工艺问题太多了,比如超精密反射镜的加工和检测,你们可以想象一下一个中国这么大的镜面相对于理想球面的波动只能有一两公分,更不要说里面的非球面镜和自由曲面镜组,再加上超精密位移平台和控制系统等,卡脖子的问题还有很多。然而对这方面不懂的人又太多,稍微一带节奏就头脑风暴了,特别是资本的小作文更是玩的high,同步辐射光源全世界老早都在做了,也不是我们遥遥领先的领域,清华的相关论文也是几年前的,被资本拿出来炒一炒,把情绪利用的一溜一溜的。实事求是艰苦奋斗的精神到哪儿去了。。。怕的是自己千辛万苦几年走的那么一小步就沾沾自喜,别人利用全世界的资源一年走好几步却闷声发大财。
有心的不妨保存这个网页或截图,五年甚至十年后再来看做到了啥地步,当然有些人也会选择性遗忘。。
真希望搞科研的不要受外围情绪影响,脚踏实地刻苦攻关,在最终目标未实现前要头脑清醒,真正的重大科研成果都是在国家的大力支持下默默无闻中搞出来的,就像之前的两弹一星。
极紫外光刻任重道远,吾辈还需努力
观众反应
GTM
:这才是靠谱的
:别叫真
:任重道远,各位科学家加油

2797
#30 23-9-16 11:27
让子弹飞一会
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